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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發和離子濺射。真空蒸發鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發或升華，pet金膜批發，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發鍍膜常用的是電阻加熱法，其優點是加熱源的結構簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數研究性實驗室中使用。
濺射技術與真空蒸發技術有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態，pet金膜加工，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，pet金膜廠家直銷，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發鍍膜相比，有許多優點。如任何物質均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
鍍鋁膜是通過真空鍍鋁工藝將高純度的鋁絲在高溫（1100~1200℃）下蒸發成氣態，之后塑料薄膜經過真空蒸發室時，pet金膜，氣態的鋁分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金屬色彩的薄膜。
應用領域：圣誕、包裝、印刷行業，其亮度好，顏色鮮艷，所加工上色的鍍鋁膜，色差小，顏色均勻，不掉色。來料來樣加工；
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PET鍍鋁膜是聚酯薄膜鍍鋁而成，PET膜偏硬，耐溫性好，一般用作外包裝材料，膠層透明，粘貼性能好，基材強度好，二次加工性能優良。表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長了內容物的保質期，又提高了薄膜的亮度，具有價廉、美觀及較好的阻隔性能，目前主要應用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫l藥、化妝品的外包裝上。
使鍍鋁薄膜成為一種性能優良、經濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、農產品的真空包裝，以及藥品、化妝品、煙的包裝。另外，鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標標簽材料等。
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